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最后更新：2025-03-27
關 注 度：41
生產企業：成都超邁光電科技有限公司
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產品詳細介紹本設備主要用于半導體刻蝕，能夠兼容離子束刻蝕和反應離子刻蝕功能，使用氣態化學刻蝕劑與材料產生反應來進行刻蝕，并形成可從襯底上移除的揮發性副產品，通過真空系統排出，特別適合刻蝕熔融石英、硅、光刻膠、聚酷亞胺( PI) 薄膜、金屬等材料。
刻蝕設備在半導體行業中占據著至關重要的地位，可以實現納米級的精密刻蝕。對復雜微結構的器件加工，微電子器件的制造提供重要支持，在芯片領域發揮著關鍵作用。 |
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